項目概況
項目為生產二極管的半導體制造行業，制成工藝中會使用氫氟酸，衍生出含氟廢水。此廢水氟濃度高，廢水成分復雜，使用我司除氟劑后可處理達標至排放標準。
水質情況
分析項目 | 水量（m3/day） | pH | F（mg/L） |
進水水質 | 2000 | 2.4 | 1500~2000 |
出水水質 | 2000 | 6~9 | ≤1.0 |
處理難點
排放標準嚴格（F≤1.0 mg/L），進水氟濃度較高，廢水硅含量較高（硅能夠和氟形成絡合態結構），處理難度大。
目標要求
1. 處理水F≤1.0 mg/L；
2. 處理水清澈透明，無懸濁物；
3. 工藝簡單，無復雜工藝；
4. 處理水氟不反溶。
工藝
采用鈣鹽搭配深度除氟劑二段處理的工藝路線。
工藝流程
處理優勢
1. 加藥量低
2. 污泥量少
3. 反應速度快
4. 出水穩定達標＜1.0 mg/L
5. 處理水無反溶現象
